SIN AJP | 8 | 34 | 2020 | Applied Organometallic Chemistry

System Informacji Naukowej

Akademia im. Jakuba z Paradyża

Strona główna / Czasopisma / Applied Organometallic Chemistry / 2020 / 34 / 8

Numer czasopisma

Opublikowano w

Czasopismo: Applied Organometallic Chemistry | Rocznik: 2020 | Tom: 34

Numer 8

Data opublikowania

2020

1.

Atomic Hydrogen Induced Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxycarbide Thin Films Derived from Diethoxymethylsilane Precursor / Jacek Tyczkowski, Aleksander Wróbel, Jacek Balcerzak, Paweł Uznański, Krzyztof Jankowski, Agnieszka Walkiewicz-Pietrzykowska, Joanna Zakrzewska // Applied Organometallic Chemistry - 2020, 34, 8, s. Article number: e5674

Artykuł naukowy 100 4,105

Finansowanie

Projekt

Projekt „Otwarte Zasoby w Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych” [OZwRCIN] współfinansowany z Europejskiego Funduszu Rozwoju Regionalnego w ramach Programu Operacyjnego Polska Cyfrowa, lata 2014-2020, Działanie 2.3 : Cyfrowa dostępność i użyteczność sektora publicznego oraz środki Partnerów

Środki partnerów

Prace związane z udostępnianiem nowych obiektów w serwisie RCIN, dofinansowywane są również ze środków Partnerów.

Ten serwis działa dzięki oprogramowaniu SINUS opracowanemu przez Poznańskie Centrum Superkomputerowo-Sieciowe

Zaloguj się, aby dodać do SIN:

System Informacji Naukowej

Akademia im. Jakuba z Paradyża

Numer czasopisma

Artykuły (1)