W zależności od ilości danych do przetworzenia generowanie pliku może się wydłużyć.

Jeśli generowanie trwa zbyt długo można ograniczyć dane np. zmniejszając zakres lat.

Menu

Strona główna / Publikacje / Amorphous silicon carbonitride thin-film coatings produced by remote nitrogen microwave plasma chemical vapour deposition using organosilicon precursor
Zgłoś uwagę

Artykuł

Pobierz BibTeX

Tytuł

Amorphous silicon carbonitride thin-film coatings produced by remote nitrogen microwave plasma chemical vapour deposition using organosilicon precursor

Autorzy

[ 1 ] Instytut Nanotechnologii i Nanobiologii, Akademia im. Jakuba z Paradyża | [ P ] pracownik

Rok publikacji

2017

Opublikowano w

Applied Organometallic Chemistry

Rocznik: 2017 | Tom: 31 | Numer: 12

Typ artykułu

artykuł naukowy

Język publikacji

angielski

Data udostępnienia online

2017

DOI

10.1002/aoc.3871

URL

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/epdf/10.1002/aoc.3871

Punktacja Ministerstwa / czasopismo

30,0

Punktacja Ministerstwa / czasopismo w ewaluacji 2017-2021

30,0

Impact Factor

3,581

Finansowanie
Projekt
Projekt „Otwarte Zasoby w Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych” [OZwRCIN] współfinansowany z Europejskiego Funduszu Rozwoju Regionalnego w ramach Programu Operacyjnego Polska Cyfrowa, lata 2014-2020, Działanie 2.3 : Cyfrowa dostępność i użyteczność sektora publicznego oraz środki Partnerów
appConf.financingLogoBottom1 appConf.financingLogoBottom2 appConf.financingLogoBottom3
Środki partnerów
Prace związane z udostępnianiem nowych obiektów w serwisie RCIN, dofinansowywane są również ze środków Partnerów.
Ten serwis działa dzięki oprogramowaniu SINUS opracowanemu przez Poznańskie Centrum Superkomputerowo-Sieciowe