Tytuł
Silicon Oxycarbide Thin Films Produced by Hydrogen-Induced CVD Process from Cyclic Dioxa-Tetrasilacyclohexane
Autorzy
[ 1 ] Instytut Nanotechnologii i Nanobiologii, Akademia im. Jakuba z Paradyża | [ 2 ] Wydział Nauk o Zdrowiu, Akademia im. Jakuba z Paradyża | [ P ] pracownik
Dyscyplina naukowa (Ustawa 2.0)
Rok publikacji
2025
Typ artykułu
artykuł naukowy
Język publikacji
angielski
Słowa kluczowe
EN
- microwave remote hydrogen plasma
- chemical vapor deposition
- octamethyl-1,4-dioxatetrasilacyclohexane
- poly(oxybisdimethylsilylene)
- SiOC films
- preceramic material
Strony (od-do)
2911(1) - 2911(25)
Typ licencji
CC BY (uznanie autorstwa)
Tryb otwartego dostępu
otwarte czasopismo
Wersja tekstu w otwartym dostępie
ostateczna wersja opublikowana
Data udostępnienia
06.2025
Czas udostępnienia publikacji w sposób otwarty
w momencie opublikowania
Punktacja Ministerstwa / czasopismo
140
Ten serwis działa dzięki oprogramowaniu SINUS
opracowanemu przez Poznańskie Centrum Superkomputerowo-Sieciowe
Zaloguj się, aby dodać do SIN: